3月26日，2025中国国际半导体设备和材料展（SEMICON China 2025）在上海国家会展中心举行。
在这个全球半导体产业中极具影响力的年度盛会中，一家此前鲜少露面的中国公司——深圳新凯来工业机器有限公司（以下简称“新凯来”）成为全场焦点。
会场内，展位参观者络绎不绝，现场发布的一连串新品，更是成为大家争相拍摄记录的对象；会场外，多家半导体行业专业媒体、财经专业媒体相继发出专门报道，聚焦这家来自深圳的“半导体新贵”。
本次新凯来通过照片和模型的方式展示了其多款产品，其中关注度最高的当属EPI“峨眉山”产品、ETCH“武夷山”产品、CVD“长白山”产品、PVD（普陀山）产品、ALD“阿里山”产品。
据了解，EPI外延层是半导体制造中的重要技术，尤其是在先进制程和第三代半导体领域。ETCH蚀刻是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一道相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺，目前主要由国际巨头主导；CVD化学气相沉积是半导体制造中需求量最大的设备之一，PVD物理气相沉积、ALD原子层沉积等都是半导体制造工艺当中非常重要的高端设备。
深圳新凯来技术有限公司成立于2021年，是深圳市重大产业投资集团旗下的国有高科技企业，专注于半导体设备及零部件的研发与制造，致力于解决国内半导体产业链的“卡脖子”问题。该公司背靠深圳国资委的强大支持，注册资本达15亿元，通过整合华为的技术基因与国有资本的战略资源，迅速在半导体设备领域崭露头角。成立仅三年多，新凯来便在2025年SEMICON China展会上首次公开亮相，推出覆盖刻蚀、薄膜沉积、量检测等关键环节的31款设备，并以中国名山命名，如“武夷山刻蚀机”“阿里山ALD设备”，既彰显技术实力又蕴含文化自信，迅速成为行业焦点。
新凯来的快速发展得益于其独特的“国家战略+地方创新”协同模式。深圳国资委通过全资控股的重大产业投资集团，为其提供专项研发资金和政策扶持，形成“材料-零部件-整机”全链条研发能力，并推动其技术标准国际化。例如，新凯来在薄膜沉积、刻蚀等关键设备领域实现了技术突破，其ALD（原子层沉积）和EPI（外延沉积）设备的性能参数已接近国际领先水平，部分产品可支持5纳米及以下先进制程，填补了国内高端设备的空白。此外，公司采用全自研模式，从底层材料、传感器到AI算法均自主开发，甚至解决了晶圆加工中电荷释放速率慢等行业痛点，显著提升了设备的稳定性和效率。
中国半导体产业的国产替代需求为新凯来提供了广阔的市场空间。在中美技术博弈加剧的背景下，国际巨头长期垄断光刻机、离子注入机等关键设备，而国内厂商的国产化率极低（如量检测设备国产化率不足5%）。新凯来凭借技术突破迅速切入这一市场，其光学检测设备、原子力显微镜等产品已通过客户验证并进入量产，直接服务于中芯国际、长江存储等国内头部芯片制造企业，降低了产业链对外依赖。同时，深圳作为中国半导体产业第三极，正通过整合中芯深圳、华润微电子等制造项目，构建从设计到制造的完整生态，为新凯来提供了协同创新的产业环境。
新凯来的崛起也反映了中国半导体产业从“单点突破”向“全链条自主可控”的战略转型。其技术突破不仅覆盖前道制造设备，还通过布局第三代半导体材料和封装测试领域，推动产业链整体升级。例如，公司计划未来3-5年补全光刻机、CMP（化学机械抛光）等短板，并探索通过国际合作或并购加速技术积累。这种以国家意志为引领、以市场需求为导向的发展路径，使得新凯来成为国产半导体设备“去依附化”的核心力量，甚至可能在未来重塑全球半导体供应链格局。
桂公网安备45110202000254